Shanghai Micro Electronics Equipment

Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. (SMEE), adalah produsen peralatan manufaktur semikonduktor yang berbasis di Shanghai, Cina. Perusahaan ini terlibat dalam penelitian, pengembangan, pembuatan dan penjualan pemindai litografi dan alat inspeksi ke industri manufaktur semikonduktor; itu juga menyediakan layanan dukungan kepada pelanggannya.

Sebelum tahun 2023, produk SMEE yang paling canggih adalah SSA600, yang memiliki resolusi pemindaian yang mampu membuat chip silikon sirkuit terintegrasi kelas 90 nm. Mesin seri SSA600 telah digambarkan oleh pengamat sebagai alat litografi ultraviolet dalam yang dilengkapi laser excimer argon fluorida (ArF) yang memancarkan sinar ultraviolet koheren pada panjang gelombang 193 nm.

Pada bulan Desember 2023, media barat melaporkan bahwa SMEE telah menyelesaikan pengembangan awal mesin litografi imersi SSA800-10W barunya yang memiliki resolusi pemindaian yang mampu membuat chip kelas proses 28 nm. Mesin baru tersebut mungkin telah dikirimkan ke produsen seperti SMIC dan lembaga penelitian. SSA800 terus menggunakan laser ArF sebagai sumber cahayanya tetapi juga mencakup alat dan komponen yang lebih baik yang memungkinkan produsen membuat fitur sirkuit yang terkait dengan teknologi proses 28 nm. Media Barat melaporkan bahwa SSA800 dirancang sedemikian rupa sehingga tidak ada komponennya yang mengandung kekayaan intelektual yang berasal dari Amerika Serikat. Beberapa analis berpendapat bahwa kemungkinan besar pemerintah Tiongkok telah meminta SMEE untuk melakukan benchmark pada sistem imersi DUV berkemampuan 28 nm yang baru. terhadap sistem ASML NXT:2000i yang serupa dan SSA800 merupakan bagian dari lini produksi dalam negeri sepenuhnya yang saat ini sedang menjalani uji produksi dan sertifikasi.

Di masa depan, versi SSA800 dapat digunakan pada proses di bawah node 28 nm melalui multi-pola; secara umum, teknik fotolitografi yang dikembangkan dalam bidang pola ganda memungkinkan mesin litografi perendaman menggunakan sumber cahaya laser ArF untuk membuat fitur sirkuit terpadu yang terkait dengan teknologi secanggih proses 7 nm atau bahkan 5 nm. Misalnya, pada tahun 2016, laporan media menyiratkan bahwa proses 10 nm baru Intel menggunakan mesin DUV imersi yang dikombinasikan dengan teknik pola ganda yang selaras untuk mencapai ukuran fitur sirkuit yang diinginkan, daripada menggunakan teknologi fotolitografi EUV yang lebih canggih.

Mesin SSA800 SMEE tertinggal dari pemimpin industri fotolitografi ASML Holding dalam hal waktu: ASML pertama kali mengirimkan mesin berkemampuan 28 nm ke TSMC pada tahun 2011. Sebelum pengenalan SSA800, SMEE memproduksi berbagai peralatan litografi, metrologi, dan turunannya. Pada awal tahun 2024, situs web perusahaan berisi daftar bauran produknya saat ini (daftar ini belum menyertakan mesin litografi SSA800 baru):

• Litografi seri SSX600 (dirancang untuk memproduksi wafer 200 mm dan 300 mm secara massal pada node 90-nm, 110-nm, dan 280-nm)
• Stepper proyeksi seri SSB500
• Stepper proyeksi seri SSB300
• Peralatan litografi seri topeng kecil SSB200 (terutama untuk pembuatan AMOLED, LCD, dan layar lainnya)
• Peralatan litografi seri topeng besar SSB200 (terutama untuk pembuatan AMOLED, LCD, dan layar lainnya)

• Peralatan anil laser seri SLD
• Peralatan pengikat wafer seri SW

• Peralatan penyelarasan foto seri SPA200
• Peralatan pengukuran seri SOM200/SCD200 (untuk mengukur total pitch, center-shift, dimensi kritis, dan overlay)
• Peralatan tegangan seri STW260 (untuk tegangan dan pengelasan "topeng logam halus" dalam pembuatan layar AMOLED)
• Peralatan pengukuran seri SOC260 (untuk pengukuran "akurasi posisi piksel", "dimensi kritis", dan kerataan penutup logam halus setelah penerapan tegangan dalam pembuatan layar AMOLED)

• Peralatan inspeksi optik otomatis seri SOI500
• Peralatan inspeksi optik semi-otomatis seri SOI600
• Peralatan inspeksi optik otomatis seri SOI800
• SOL500 CD (dimensi kritis) dan peralatan metrologi overlay
• Peralatan metrologi holistik SHM800

Pemindai SSA800 SMEE tampaknya akan disusul oleh SSA900 yang lebih canggih lagi, dengan resolusi yang mampu membuat chip IC node 22 nm dalam sekali lintasan.

Tidak diketahui apakah SMEE akan memulai pengembangan pemindai litografi EUV yang saat ini hanya diproduksi oleh ASML Belanda; namun, beberapa pengamat berpendapat bahwa mungkin terdapat tiga upaya terpisah saat ini di Tiongkok, yang melibatkan lembaga swasta, negara, dan pendidikan selain UKM, untuk mengembangkan dan menghadirkan prototipe pemindai litografi EUV Tiongkok dalam beberapa tahun mendatang.

• http://www.smee.com.cn